某半导体材料制造出各个企业因晶圆的清洗多种工序诞生含氨化工废水，排水量200吨/天。化工废硫酸铜溶液除氧化还原电位外还内含氟化物和进样器天价属，办理困难大。本地人尾气废水排放标准的标准的的标准氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 营养成分及由来 晶圆洗掉污水（主要來源）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺程序电镀废水：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值起伏大 CMP研磨机废液：含硅颗粒物及氧化还原电位 解决工艺设备方法 选择"物理乳浊液+膜拆分+折点氯化"乐队组合鑫霖环保： 预外理 ：加药系统CaCl2除氟，把控pH在7.5-8. 反渗透装置软件系统 ：除掉0.01μm以上内容科粒物 反融于精炼 ：将高锰酸盐指数精提至1000mg/L上面 折点氯化 ：精准把控氯加药量，将高锰酸盐指数转变成为N2 铝离子互换 ：服务巨资属不合格 最终能够特效 化学需氧量安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含水量降到探测限 水循环率达75% 飞灰诞生量下降40%