某半导体技术清理芯片生诞生产厂在晶圆生产阶段中，选用硅烷实行硅概念生长发育，废气排放洗衣塔诞生高密度含硅焦化污废水 。焦化污废水 兼有pH动荡大（2-11）、硅含碳量高的亮点，过去的清理方式方法易产生硅垢不通相关问题。 工业废水组分及渠道 生活污水主要的成分为： 分解性硅酸盐 ：SiO₂氧化还原电位达1000-1500mg/L 磷酸/氢氧化物钠 ：洗條塔耐酸碱洗條液使用量 颗料硅 ：微米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：工业原料沉渣进入 治疗方法方案 特色化主要采用"两极中合+膜过滤程序+减压蒸馏析出"工艺设备： 一級结合 ：用CaO调pH至4-5，绘制硅酸钙沉淀物，硅我们要除率60%。 二级考试与 ：加Na₂CO₃将pH升高至9，进一点积淀余量硅，电容串联用镁剂除砷。 超滤膜机系统 ：0.02μm淘瓷膜过滤程序微米级硅粉末，通量稳固在80LMH。 MVR多效冷凝器 ：提液高盐电镀废水，沉淀出Na₂SO₄副产设备，水中水回用率超90%。 最中视觉效果 总硅从1500mg/L降为5mg/L左右 砷含锌量从0.8mg/L高于0.01mg/L 机系统无积灰操作突破2年 一年回报浓盐酸钠结晶约800吨